基材

基材

特殊激光应用的基材，如腔环时间光谱或EUV镜的特点是：

Ø•的几何形状：

　对于直径，厚度，纬度或曲率半径等几何特性的公差，请参见我们目录的第12页

Ø• 表面粗糙度

Ø•表面形状公差

Ø•抛光表面上的缺陷数量。

ØLAYERTEC已经优化了所有这些参数的抛光程序。在下文中，我们展示了使用熔融二氧化硅和氟化钙实现的一些突出的成果。

规格

Ø表面粗糙度

Ø•对于熔融二氧化硅和氟化钙的平面基板，RMS - 粗糙度<1.5Å

Ø•平滑弯曲的球形熔融石英表面（取决于直径和曲率半径）的相似结果，

Ø•即使在紫外线范围内，基板的散射损耗也很低：

Øo在248nm处的TS = 2×10 -5（总后向散射）

Ø在193nm处，TS = 5.6×10 -4（总后向散射）和7.5×10 -4（前向散射）

Ø即使在DUV / VUV波长范围内也适用于低损耗光学元件

高质量抛光熔融石英基板的功率谱密度（PSD）曲线（在FhG IOF Jena进行测量）

高质量抛光CaF2基板的3D AFM测量（在FhG IOF Jena进行），均方根粗糙度为0.12nm

表面容差

表面质量