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CVD钻石光學元件材料
- 产品型号：
- 更新时间：2023-12-21
- 产品介绍：CVD钻石光學元件材料这种镀膜对于暴露在恶劣环境中的光学器件，以及需要经常清洁的应用，如切割、钻孔、划线和打标，可能会有飞溅物和碎屑附着在光学表面上，特别有用。这种低吸收性镀膜也是对热稳定性敏感的应用的理想选择。
- 厂商性质：代理商
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产品介绍
| 品牌 | 其他品牌 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,电子 |
CVD钻石光學元件材料
钻石镀膜抗反射ZnSe
钻石镀膜抗反射ZnSe元件材料
II-VI's Diamond OverCoat (DOC)是一种混合型抗反射（AR）镀膜，比传统的Ge类金刚石碳（DLC）镀膜具有更高的光学性能，比标准的AR设计具有更好的耐久性。这种镀膜对于暴露在恶劣环境中的光学器件，以及需要经常清洁的应用，如切割、钻孔、划线和打标，可能会有飞溅物和碎屑附着在光学表面上，特别有用。这种低吸收性镀膜也是对热稳定性敏感的应用的理想选择。
DOC/AR镀膜通常应用于光学器件的一面，但也可以应用于两面。反射性镀膜的DOC设计也可用于镜面。
可清洗
特别设计的防金属溅射功能
防刮伤
轻松去除附着在光学表面的灰尘、污垢等杂物。
高传输
与传统的DLC镀膜相比，性能有所提高
吸收率低，热稳定性好
多用途
可在各种基材上进行透射和反射应用。ZnSe、铜、钻石、SiC、硅、其他
可提供非钍版本
单一波长和宽带波长可供选择
镀膜可适用于各种几何形状
特性
材料——硒化锌
| 规格 | 标准 |
| 尺寸公差 | 直径：+ 0.000 / - 0.127mm |
| 边缘厚度变化 (ETV) | < 3 弧分 |
| 通光孔径 | 直径的 90 % |
| 0.63 µm 处的表面图形（功率/不规则性） | 1.0 条纹 / 0.5 条纹（12.7 毫米 - 63.5 毫米直径） |
| 表面质量 | 20 - 10 |
| 10.6 µm处每个表面的增透膜反射率 | < 0.2 % |
| 直径 | 10 毫米 - 300 毫米 |
镀膜 DOC/AR
| 基材 | ZnSe |
| 可用的光谱范围 | 9.2 - 10.7 µm |
| 9.4 x µm (DOC/AR) 的光谱性能 | 透射率 > 98.5 %（通过两个表面） 反射率 < 0.2 %（每个表面） |
环保性能
该镀膜旨在满足以下 MIL 规范的耐用性要求：
3.4.1.1 附着力
3.4.1.2 湿度
3.4.1.3 中度磨损
3.4.2.1 温度
3.4.2.2 溶解性和清洁性
光谱性能
9.4 x µm (DOC/AR) 的光谱性能
每个表面反射 < 0.2 %
透射率 > 98.5 %
吸收率 < 0.9 %
这种镀膜可以设计成在其他 CO2 波长下具有类似的性能。
CVD钻石光學元件材料
多晶CVD金刚石由于其出色的性能，长期以来一直被认为是各种应用的终/极材料。它优良的硬度是精密工具和加工工艺的优势。金刚石的高导热性使它在热管理应用中非常有用。其广泛的光学传输范围使金刚石窗口能够进入半导体制造的尖/端光刻系统。此外，它在微波波段的透明度为微波工程的应用开发开辟了一个完整的世界。在其较纯净的形式下，多晶CVD钻石没有电子陷阱，使其成为高能应用中使用的超敏感核探测器的理想材料。
通过等离子体化学气相沉积法生长，II-VI公司的钻石产品经过优化，充分利用了使钻石成为超级材料的品质。II-VI Incorporated将晶体生长与较*的光学级加工相结合，通过整形和抛光、质量保证和涂层，其广泛的CVD金刚石产品组合包括高透明度的微波窗和灵敏度最高的金刚石核探测器。II-VI Incorporated对金刚石材料研究和开发的强烈承诺使我们能够与希望利用多晶CVD金刚石的惊人品质的所有市场客户密切合作。
透明窗和光学器件
在II-VI ，光学金刚石正在大批量生产。我们一直在生产具有优质光学质量的材料（低1微米散射，低10.6微米体吸收，低632.8纳米的双折射），其截面尺寸和厚度范围广泛。
通过利用制造和涂层方面的核心技术，II-VI ，成为极紫外光钻石窗口的优良品牌，这对下一代半导体制造的*光刻工具至关重要。
热管理解决方案
通过调整我们的生长过程，II-VI ，已经开发出为各种高性能热管理应用生成多晶CVD金刚石的能力。热导率的规格范围高达2200 W/m-K以上。利用我们优良的制造设施，我们能够根据客户的规格制造出直径大至145mm、厚度达2mm的超平和超光滑的部件，以确保与设备的优良的热接触。
微波透明光学器件
II-VI 制造高质量的钻石光学产品，在微波区域是透明的。结合我们内部对直径大至145mm的窗口和透镜进行抛光和镀膜的能力，II-VI 已经准备好满足核聚变研究等领域对微波透明材料的需求。
加工解决方案
II-VI 已经开发出一种金刚石薄膜，在加工较坚硬的材料时，拥有堪称*的硬度和磨损率。通过将我们较*的抛光和制造技术与我们内部的激光制造设施相结合，我们能够以有竞争力的价格生产出优良的产品。
核检测器解决方案
使用精细调整的超高纯生长工艺，II-VI ，生长出的多晶金刚石薄膜表现出优良的电荷收集距离。对于500微米厚的成品部件，可以获得一致的结果。
主要的CVD钻石应用
CVD金刚石的应用包括多光谱激光光学、介电窗、散热片等。
金刚石是各种应用的终/极材料，因为它具有出色的性能，包括极/强的硬度和强度、高导热性、低热膨胀、出色的介电性能、抗化学侵蚀以及在宽光谱范围内的光学传输。
我们在较*的生长和制造设施中生产高质量的多晶CVD金刚石基片。材料采用等离子体辅助化学气相沉积工艺生长，用激光切割成所需的尺寸，并按照客户的要求对表面进行加工。我们还提供其他特殊的制造服务，如边缘研磨、激光雕刻以及光学组件的设计和制造。II-VI ，专门为金刚石基片提供*的光学涂层，包括单波长或多光谱应用的AR、HR和TFP。
II-VI 所提供的一些产品包括。
用于工业激光应用的高功率CO2激光窗口（10微米范围）。
用于工业或研究应用的高功率多光谱激光窗口。
用于聚变和定向能应用的高功率mm波窗口
用于极/端热管理应用的热扩散器
用于需要超硬材料的机械应用的产品。
主要的CVD钻石应用
CO2激光窗(10.6µm)
- 高功率工业激光器
高功率微波窗
- 陀螺仪、聚变反应堆
- 雷达、定向能应用
热管理
- 散热器
| 生长方法 | 等离子化学气相沉积 |
物理特性
| 结构 | 立方，多晶 |
| 晶粒大小 | 取决于厚度和工艺（0.05 - 1mm） |
| 等级 | 光学、热、微波、探测器、机械、客户定制 |
| 厚度* | 最大 2 mm |
制造能力*
| 尺寸 | 激光切割客户规格，最大直径145mm |
| 尺寸公差 | +/- 50µm |
| 抛光纵横比 | 高达 50:1 的直径高达 145 mm |
| 功率 | <0.5_fr/cm |
| 不规则度 | <0.5_fr/cm |
| 透射波前 | <0.5_fr/cm |
| 表面粗糙度 | <15nm |
热性能（热级材料）
| 导热系数 | 室温下高达 >2,200 (W/mK) |
| 热膨胀系数 | 1 (10-6 K-1) |
| 比热 (25ºC) | 0.536 (J g-1 K-1) |
光学特性（光学级材料）*
| 体积吸收@10.6µm <0.07(cm-1) | <0.07(cm-1) |
| 体积吸收@1um <1(cm-1) | <1(cm-1) |
| 散射@1µm <0.7(cm-1) | <0.7(cm-1) |
微波级材料
| 微波损耗角正切(Tan δ) | <2e-5 |
*这代表标准生产。 可根据要求提供产品数据表和规格。
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